2019年，美国以所谓的“安全问题”为由，将华为列入“实体清单”，随后，还出台了一系列的芯片限制政策，其目的是为了切断华为所有的芯片来源，限制华为的发展。
美国的此举，也让我们意识到，手上没有自己的技术，就要被别人牵着走，随时被"卡脖子"，成为成为砧板上的鱼肉。相比较于西方国家，主要还是我国半导体行业存在一定的差距，成为美国打压的砝码。
为了补强芯片这个短板，摆脱美国的约束，国家也出台了大量的优惠扶持政策，并提出在2025年实现70%国产芯片自给率的目标，随后，国内大量的优秀科技企业积极响应号召，进军半导体行业。据了解，在2020年里，国内新增2000家半导体企业。
国产光源传来好消息大家应该知道，在光刻机里，光源是核心部件之一，在光源的发展路径里，第一代光源采用436nm波长的近紫外光，随着科技的进步，发展到如今，最先进的光刻机采用第五代EUV光源采用13.5nm波长的极紫外光。
在国产光源方面，在2018年，科益虹源已经生产出193nm准分子激光器，可用于DUV光刻机。如今，国产光源再一次传来好消息，据某知名大V的爆料，13.5nm光源即将实现，如果该消息属实，将极大推动国产光刻机的发展。
此外，在前一段时间的2021浦江创新论坛·科技创新青年峰会上，来自中科院上海光学所的田野研究员表示，正在努力攻克从准分子的波段推进到13.5纳米波段。
换句话来说，正在向EUV光刻机的13.5nm极紫外光推进，这也侧面印证了13.5nm即将实现的消息极大可能是真的。
国产28nm芯片今年即将实现量产，14nm芯片明年实现量产6月23日，中国电子信息产业发展研究院、电子信息研究所所长温晓君，在接受媒体采访时已确认：国产28nm芯片今年即将实现量产，14nm芯片明年实现量产。
这无疑是国内半导体行业发展的一个重大喜讯，这个消息意味着，国产光刻机明年一定能够交付，并可以量产芯片，同时，国内芯片制造业也即将具备满足手机、电脑对芯片的基本需求能力。
在工艺方面，或许很多人瞧不起14nm，因为相比较于5nm，14nm落后于很多。但是从市场角度来看，14nm已经满足市场基本需求，据相关数据显示，2020年，14nm芯片占全球芯片的82%。所以，我们可以先从28nm、14nm开始，逐步完善国产半导体供应链，抢占全球中低端芯片市场，再逐渐向高端芯片市场发展。
TCL创始人李东升曾表示，国内有能力在5年内解决高端芯片短缺的问题。28nm、14nm纯国产芯片的即将量产也是很好的证明。
写在最后在这个物联网时代，芯片成为必不缺少的关键，因此，"中国芯"具有重大的战略意义。在中科院、华为、上海微电子、中芯国际、清华大学等国内一众科技企业、科研机构/院校共同努力，美国都无法阻挡，笔者相信"中国芯"不是梦。
EUV光刻机虽然难，但是不管它有多神，都是人造的，火星我们都去了，月亮我们也去，笔者相信，中国也能造出光刻机，我们拭目以待吧。
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